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熔融石英 · 硼矽酸鹽 · 石英材料選項
100mm–300mm直徑範圍
> 90% 穿透率紫外至近紅外
RMS < 0.5nmCMP表面處理

概述

玻璃基板在MEMS、微流體、光學和生物醫學領域具有廣泛的應用。GINECHIP提供全面的玻璃和石英晶圓基板,包括硼矽酸鹽玻璃、熔融石英、藍寶石和單晶石英等多種材料選擇。

我們提供業界領先的品質和精度,所有玻璃基板均在無塵室環境中包裝和運輸。

材料類型

熔融石英(紫外級)

高純度合成熔融石英,具有卓越的紫外線穿透率和極低的熱膨脹係數,是光學、光刻和半導體應用的理想選擇。

  • 穿透率:185nm–2.1μm,T > 90%
  • 極低自體螢光
  • 高雷射損傷閾值
  • 提供 JGS1(UV)、JGS2、JGS3 等級
  • 經 CMP 拋光至次奈米級 RMS

Borofloat 33

Borofloat 33 是一種硼矽酸鹽玻璃晶圓,具有優異的抗熱衝擊性和化學耐久性。廣泛用於MEMS、微流體和光學應用。

  • CTE:3.25 ppm/K — 與矽匹配
  • 轉化溫度:525°C
  • 高耐化學性(水解等級 1)
  • 提供具優異平坦度的 DSP
  • 適用於玻璃穿孔(TGV)製程

AF 32® eco

SCHOTT AF 32® eco 是一種無鹼薄玻璃,具有出色的熱穩定性和化學耐久性,適用於MEMS和生物醫學應用。

  • CTE:3.2 ppm/K — 與矽匹配
  • 低介電損耗:10 GHz 時 tan δ ~ 0.004
  • 最薄可達 100μm
  • 非常適合 2.5D 封裝中的 TGV 中介層
  • TFT 背板無鹼金屬遷移問題

D 263® T eco

SCHOTT D 263® T eco 是一種薄硼矽酸鹽玻璃,具有高透光率和優異的表面品質,適用於光學和顯示器應用。

  • 提供 30μm–1100μm 厚度
  • 350nm–2.5μm 高穿透率
  • 折射率 n = 1.5230
  • 平滑火拋光表面
  • 對大量應用具成本效益

單晶石英

單晶石英晶圓具有精確的晶體取向和優異的壓電特性,適用於高頻振盪器、濾波器和感測器應用。

  • 壓電係數 d₁₁ = 2.31 pC/N
  • AT 切型,適用於溫度穩定的諧振器
  • 高 Q 值,適用於低相位雜訊振盪器
  • 提供 2″ 至 4″ 晶圓
  • 客製化晶體取向

鈉鈣浮法玻璃

經濟實惠的鈉鈣玻璃晶圓,適用於研究、教育和低成本的微流體應用。提供多種尺寸和厚度選擇。

  • 鈉鈣玻璃:成本最低,供應廣泛
  • 鋁矽酸鹽:高抗刮性
  • 支援客製玻璃成分
  • 提供薄型(< 100μm)與超薄型
  • 適合原型製作與小批量

技術規格

參數可用範圍 / 值
材料Fused Silica (SiO₂), Borosilicate Glass (Borofloat® 33, AF32® eco, D263®), Quartz (single-crystal), Soda-Lime, Alkali-Free Glass
直徑100mm (4″), 150mm (6″), 200mm (8″), 300mm (12″)
厚度100μm–1100μm (ultra-thin 50μm available for flexible substrates)
表面品質DSP, SSP, CMP-finished; S/D 40/20 or better per MIL-PRF-13830B
表面粗糙度RMS < 0.5nm (CMP), < 1.0nm standard polish
TTV/弓形/翹曲TTV < 3μm, Bow < 20μm (fused silica); custom specifications available
CTE0.55 ppm/K (fused silica), 3.2 ppm/K (AF32), 7.2 ppm/K (D263), 3.25 ppm/K (Borofloat)
穿透率> 90% from 185nm–2.1μm (fused silica); D263: > 90% from 350nm–2.5μm
折射率(n₅₈₉)Fused Silica: 1.458; Borosilicate: 1.471–1.473; D263: 1.523; AF32: 1.510
介電常數3.8 (fused silica), 4.6 (borosilicate), 5.1–6.9 (alkali-free glass) at 1 MHz
包裝Interleaved with cleanroom paper, single-wafer cassette, vacuum-sealed outer bag

應用

MEMS與微流體元件

以陽極鍵合玻璃蓋板與通道,應用於壓力感測器、加速度計及基於Borofloat與AF32基板的晶片實驗室微流體系統。

晶圓級光學與光罩基板

熔融石英基板拋光至次奈米級粗糙度,用於光罩基板、光學視窗及紫外線透明鏡片。

陽極與熔融晶圓鍵合

CTE匹配的硼矽酸鹽玻璃直接與矽鍵合,用於氣密MEMS封裝及空腔SOI等效結構。

2.5D/3D玻璃中介層(TGV)

在AF32及熔融石英基板上進行玻璃穿孔製程,實現低損耗RF中介層,應用於先進封裝。

RF諧振器與SAW/BAW濾波器

單晶石英晶圓以AT或ST切向切割,用於高Q值壓電諧振器及表面聲波濾波器製造。

顯示器與觸控面板基板

鈉鈣及D263玻璃基板應用於TFT背板、觸控感測疊層及顯示器製造用蓋板玻璃。

TGV技術

玻璃穿孔(TGV)技術實現了高密度垂直互連,適用於3D封裝和RF應用。我們的TGV基板具有優異的電氣隔離性能和低介電損耗。

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ISO 9001:2015SEMI 標準符合 RoHS無塵室封裝