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矽光子學平台技術
< 0.2nm RMS精度
150mm/200mm晶圓產能
ISO 9001:2015認證

概述

光子學和LiDAR是下一代感測和數據通信的核心技術。GINECHIP提供全面的光子和LiDAR基板解決方案,涵蓋矽光子學SOI晶圓、InP光子集成電路基板、GaAs VCSEL陣列和Si₃N₄波導基板,支援從數據中心光互連到自動駕駛LiDAR的全方位應用。

我們提供業界領先的品質和精度,所有光子學基板均經過嚴格的表面品質和光學特性驗證。

材料平台

矽光子學(SOI)

絕緣體上矽(SOI)光子平台,波導損耗低於1dB/cm,整合Mach-Zehnder與環形調製器,並配備Ge-on-Si光偵測器,適用於O波段與C波段收發器。

Substrate: SOI (220nm Si / 2μm BOX)Waveguide loss: < 1 dB/cmModulator: Mach-Zehnder, ringPhotodetector: Ge-on-SiWavelength: O-band, C-bandDiameters: 200mm, 300mm

磷化銦(InP)光子學

單片式InP平台整合DFB/DBR雷射、半導體光放大器與高速電吸收調製器,適用於1.3–1.6μm範圍的主動光子元件。

Substrate: InP (S.I. or N-type)DFB/DBR lasers: 1.3–1.6μmSOA: 20+ dB gainEAM: 40+ GHz bandwidthAWG: 40–96 channelDiameters: 2″, 3″, 4″

氮化矽(Si₃N₄)光子學

超低損耗氮化矽波導支援高功率連續波運作與Kerr梳生成,適用於窄線寬雷射、感測與非線性光子學應用。

Si₃N₄ thickness: 100–800nmLoss: < 0.1 dB/cm (visible/IR)Power handling: > 1W (CW)Nonlinear: Kerr comb generationCladding: SiO₂ (TEOS or thermal)Diameters: 100mm, 150mm, 200mm

GaAs VCSEL與雷射二極體平台

以GaAs為基礎的磊晶平台,適用於808–940nm VCSEL與邊射型雷射,配備AlGaAs/GaAs DBR反射鏡與InGaAs量子井結構,可用於照明與LiDAR發射源。

Substrate: GaAs (N-type, 6″)Wavelength: 808nm, 850nm, 940nmDBR: 20–40 pairs AlGaAs/GaAsQW: InGaAs or GaAs/AlGaAsPower: mW to multi-Watt arraysEpi-ready or patterned substrates

絕緣體上鈮酸鋰(LNOI)

薄膜鈮酸鋰平台可提供超過100GHz的調製頻寬與低Vπ·L值,可實現用於相干光通信的下一代電光調製器。

LNOI: 300–700nm LiNbO₃ filmr₃₃ = 30.8 pm/VModulator BW: 100+ GHzVπ·L < 2 V·cmHandle: LiNbO₃ or SiDiameters: 3″, 4″, 6″

LiDAR 技術

直接飛行時間(Flash)LiDAR

以GaAs為基礎的脈衝雷射陣列,結合MOCVD磊晶生長的DBR與量子井結構,可為車用與工業Flash LiDAR照明源提供50–500W峰值功率。

Substrate: GaAs 6″Wavelength: 905nm, 940nmPeak power: 50–500W (array)Pulse width: 1–10nsRep rate: 100kHz–2MHzEpi: MOCVD-grown DBR + QWs

FMCW相干LiDAR

InP與矽光子平台可實現具相干偵測的調頻連續波(FMCW)LiDAR,將測距範圍延伸至200–500m以上,同時提供即時速度資訊。

Substrate: InP, SOI (SiPh)Wavelength: 1530–1570nmFiber laser: Er-dopedPulse energy: μJ to mJRange: 200–500m+Coherent detection (FMCW)

SPAD/dToF偵測器陣列

在特殊矽磊晶上製作的CMOS相容單光子雪崩二極體陣列,可實現低於100ps的時序抖動,適用於緊湊接收模組的直接飛行時間測距。

Substrate: Si (specialty epi)Pixel pitch: 10–50μmTiming jitter: < 100ps FWHMPDE: 20–40% (905nm)Array size: 64×64 to 512×512CMOS-compatible process

SOI規格

參數標準規格進階規格
元件層厚度220nm ± 5nm220nm ± 2nm (or custom)
BOX層厚度2.0μm ± 5%2.0μm ± 2% (or 3.0μm)
Handle晶圓725μm Si (100)725μm HR-Si (>1kΩ·cm)
矽層均勻性< 2nm (1σ)< 1nm (1σ)
BOX均勻性< 1% (1σ)< 0.5% (1σ)
直徑200mm200mm, 300mm
表面粗糙度< 0.2nm RMS< 0.15nm RMS
顆粒數< 20 @ 0.12μm< 10 @ 0.09μm

所有規格均基於標準產品。客製化規格可根據需求提供。

應用領域

汽車ADAS與自動駕駛

固態LiDAR與光子感測器提供L2+駕駛輔助與自動駕駛感知系統所需的測距範圍與角解析度。

機器人與工業自動化

緊湊型LiDAR與光子感測模組可為移動機器人與工廠自動化實現避障、SLAM導航與精密量測。

電信與數據通信光收發器

矽與InP光子集成電路驅動100G–800G光收發器,用於資料中心互連與長途電信網路。

AR/VR與消費性感測

VCSEL陣列與光子結構支援擴增與虛擬實境裝置中的深度感測、眼動追蹤與結構光投影。

生醫與環境感測

光子集成電路透過波導式光學感測平台,實現緊湊型光譜分析、氣體感測與即時診斷。

航太與國防

耐輻射光子與LiDAR元件支援航太與國防系統中的自由空間光通信、目標定位與遙測感測。

波導技術

矽和氮化矽波導平台可供選擇,傳播損耗低至0.5 dB/cm。支援單模和多模波導設計。我們的光刻和蝕刻製程可實現垂直側壁,RMS粗糙度低於5nm,以實現低散射損耗。

外延品質

外延層通過光致發光掃描、X射線衍射搖擺曲線分析和表面缺陷密度量測進行表徵。我們保證整片晶圓的外延層均勻性在2%以內,RMS表面粗糙度低於0.2nm。

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ISO 9001 認證 SEMI 標準合規 Epi-Ready 表面 客製化薄膜疊層