Пластины из плавленого кварца
Три марки для фотомасок и DUV-оптики: близкий к нулю коэффициент теплового расширения (CTE 0,55 × 10⁻⁶/К) и оптические характеристики с низким уровнем дефектов.
Обзор
Плавленый кварц (fused silica) — аморфный материал SiO₂, получаемый из высокочистого сырья. Он обеспечивает сверхнизкое тепловое расширение (CTE 0,55 × 10⁻⁶/К), отличное пропускание в глубоком УФ и очень высокую химическую чистоту.
Мы поставляем UV-grade (JGS1), IR-grade (JGS3) и синтетический плавленый кварц. Для всех пластин доступны варианты с RMS < 0,5 нм (стандарт) / < 0,3 нм (точно), TTV ≤ 3 мкм и упаковкой в условиях Class 100.
<strong>Синтетическая</strong> марка: 193 нм пропускание >99,7%/см — идеальна для DUV-фотошаблонов и оптики эксимерных лазеров.
Сравнение сортов
Содержание OH и уровень металлических примесей определяют пропускание в области глубокого УФ/ИК и допуск к лазерному воздействию. Выберите марку, оптимальную для вашего применения.
UV-Grade (JGS1)
Лучше всего для UV-оптики и фотомасок
Высокое содержание OH и пропускание на 185 нм выше 90% делают материал идеальным для UV-оптики и фотомасок.
IR-Grade (JGS3)
Лучше всего для ИК-оптики
Низкое содержание OH (<10 ppm) обеспечивает пропускание >85% при 2,7 мкм, подходящее для ИК-оптики и процессных камер.
Synthetic Fused Silica
Лучше всего для DUV и эксимеров
При пропускании на 193 нм выше 99,7%/см и металлических примесях ниже 0,1 ppm материал подходит для DUV-литографии и эксимерных лазеров.
Оптические свойства
Плавленый кварц обеспечивает самый широкий диапазон пропускания среди всех стекол — от глубокого УФ (185 нм) до ближнего ИК (2 500 нм+) — благодаря крайне низкому поглощению. Поэтому он является стандартным выбором для заготовок фотошаблонов и оптики эксимерных лазеров.
Глубокий УФ
УФ-сорт плавленого кварца обеспечивает внутреннее пропускание >99,7%/см при 193 нм и высокую стойкость к лазерному повреждению для DUV-литографии.
УФ-видимый
Спектрально ровное пропускание в видимом диапазоне, n₅₈₉ = 1,4585, идеально для прецизионной оптики и измерительных окон.
Ближний ИК
Синтетические марки с низким содержанием OH сохраняют пропускание >92% при 1 550 нм и обеспечивают минимальные потери при вставке для волоконно-оптической и ИК-сенсорной оптики.
Производственные возможности
Пластины из плавленого кварца обрабатываются по той же схеме, что и полупроводниковые пластины: двусторонняя полировка, CMP, резка и утонение, обеспечивая плоскостность и чистоту на уровне подложки.
Двусторонняя полировка и CMP обеспечивают TTV ≤ 3μm (опционально ≤ 1μm), bow ≤ 20μm и warp ≤ 25μm при шероховатости поверхности RMS < 0.5нм (CMP < 0.3нм).
Лазерная и дисковая резка формируют гладкие кромки с низким сколом и высокой производительностью для рассечения на уровне кристаллов.
Утонение до 100μm–1,000μm с обработкой для снятия напряжений обеспечивает надежное обращение в последующих операциях склеивания и сборки.
Подложки фотошаблонов
Плавленый кварц является промышленным стандартом для заготовок фотошаблонов: низкое тепловое расширение (CTE 0.55 × 10⁻⁶/K) и высокая пропускная способность на 193 нм делают его эталоном для DUV-литографии.
Качество поверхности соответствует требованиям S/D 40/20 scratch-dig и низкой волнистости на готовых заготовках, при этом уровень металлических загрязнений < 1ppm для контроля дефектов на перспективных масках.
Технические характеристики
| Параметр | Доступный диапазон / значения |
|---|---|
| Класс материала | UV-grade (JGS1), IR-grade (JGS3), Synthetic Fused Silica |
| Диаметр | 100mm (4″), 150mm (6″), 200mm (8″), 300mm (12″) |
| Толщина | 200μm–1100μm, custom ±10μm tolerance |
| Шероховатость поверхности | RMS < 0.5nm standard, < 0.3nm premium |
| TTV (общая разнотолщинность) | ≤ 3μm standard, ≤ 1μm premium |
| Прогиб / Коробление | Bow ≤ 20μm, Warp ≤ 25μm |
| Пропускание @ 185nm | > 90% UV-grade, > 85% standard |
| Показатель преломления | n₅₈₉ = 1.4585 |
| CTE (коэффициент теплового расширения) | 0.55 × 10⁻⁶/K (20–300°C), nearly zero thermal expansion |
| Диэлектрическая проницаемость | 3.8 at 1 MHz |
| Точка размягчения | ~1,600°C (synthetic fused silica) |
| Плотность | 2.20 g/cm³ |
| Качество поверхности | S/D 40/20 per MIL-PRF-13830B or better |
| Упаковка | Class 100 cleanroom, interleaved, vacuum-sealed cassette or single-wafer shippers |
Типичные применения
Фотошаблонные заготовки
Низкий КТР 0.55×10⁻⁶/K и пропускание >99,7%/см на 193 нм для DUV фотошаблонных заготовок.
Оптика эксимерного лазера
Высокий порог лазерного повреждения для эксимерной оптики на 193 нм и 248 нм в глубоком УФ.
Био-МЭМС и микрофлюидика
Низкая автофлуоресценция и высокая химическая чистота для флуоресцентных биотестов.
Компоненты волоконной оптики
Марки с низким содержанием OH и примесями металлов < 1 ppm для малых потерь при стыковке волокон и прецизионных подложек феррул.
Ёмкостные МЭМС
Диэлектрическая проницаемость 3,8 при 1 МГц и низкие диэлектрические потери для RF- и сенсорных МЭМС.
Прецизионная оптика
Теплостабильные подложки Scratch-Dig 40/20 для зеркал, окон и компонентов интерферометров.
Метрология и контроль качества
Обзор — каждая пластина из плавленого кварца проходит индивидуальную проверку, а с каждой отгрузкой прилагается полный отчет по измерениям.
Запросите коммерческое предложение на пластины из плавленого кварца
Отправьте ваши индивидуальные требования: марка (UV/IR/синтетическая), диаметр, толщина и качество поверхности. Наша инженерная команда быстро подготовит предложение, адаптированное под задачи для фотошаблонов, эксимерной оптики и прецизионной оптики.