Технические статьи | GINECHIP™

Подложки

Материалы

Кремниевые подложки

Первичные кремниевые пластины Тестовые / мониторные пластины Фиктивные / механические пластины Восстановленные пластины Ультратонкие / Taiko пластины FZ высокоомные пластины SOI-подложки Термический оксид на кремнии Нитрид на кремнии (Si₃N₄)Эпитаксиальные кремниевые пластины
Составные полупроводники

SiC подложки Арсенид галлия (GaAs)GaN на сапфире Фосфид индия (InP)
Стеклянные подложки

Плавленый кварц Борофлоат 33 Сапфир (Al₂O₃)Монокристаллический кварц
Подложки с покрытием

TEOS оксид на кремнии Ниобат лития (LiNbO₃)Танталат лития (LiTaO₃)Стекло с ITO покрытием Кремний на сапфире (SOS)
Прочие материалы

Германий (Ge)Графен на подложках
Слитки и оптовая продажа

Кремниевые слитки Составные слитки

Кастомизация

MEMS процессы

Литография и осаждение

Продвинутые процессы

Переработка

Услуги восстановления

Сертификация и измерения

Аксессуары

Транспортировка и упаковка

Технологические материалы

Применения & Ресурсы

Отрасли

Решения & База знаний

Инструменты

Магазин О компании

Корзина Запросить КП

Скоро появится

Наша команда готовит технические статьи о полупроводниковых подложках.

Связаться с инженерами