Подложки
MEMS процессы
Переработка
Аксессуары
Ресурсы
Компания
Магазин
Up to 70%Экономия затрат
3–5 CyclesСрок службы при восстановлении
Si · SOI · Glass · GaAsТипы подложек
< 0.5nm RaПолированная поверхность

Обзор

Восстановление пластин снижает затраты на 50–70%.

Химическое удаление + CMP переполировка + очистка.

Наши услуги регенерации

Удаление плёнок

Химическое удаление SiO₂, Si₃N₄, металлов, фоторезиста.

Strip: resist, oxide, nitride, metalCMP to Ra < 0.5nmParticle: < 10 adds @ 0.2μmThickness loss: < 3μm/cycleReclaim cycles: 3–5 typicalWafer: 100mm–300mm

CMP переполировка

CMP до Ra < 0,5 нм. TTV < 2 мкм после восстановления.

Oxide strip (BOE/HF)Nitride strip (hot H₃PO₄)Metal etch (Al, Ti, Cu, W)Resist strip (O₂ plasma + SPM)Poly-Si removalSelective etch — no Si pitting

Очистка после восстановления

Очистка RCA-1/2. Металлы < 5E10 ат/см².

Single-side (SSP) or double-side (DSP)Ra < 0.5nm (AFM verified)TTV < 2μmSTIR < 1μmParticle removal to Class 1Oxide CMP for SOI reclaim

Метрологическая пересертификация

Полная пересертификация: TTV, шероховатость, частицы.

Remove processed device layersSi etch-back: 5–50μm removalRe-polish to target thicknessFull metrology re-certificationCassette-to-cassette handlingApplicable to CZ and FZ wafers

Индивидуальная разработка

DOE-разработка для спецподложек: GaAs, SiC, InP, сапфир.

SOI reclaim (preserve BOX)Glass: fused silica, borosilicateGaAs: selective etch processesSapphire wafer reclaimCustom process developmentSmall-batch &amp; R&amp;D lots accepted

Технологический процесс регенерации

01

Входной контроль

Входной контроль. Сортировка по типу плёнки.

02

Химическое удаление

Химическое удаление в ваннах. Контроль концентрации.

03

CMP переполировка

Многоплитная CMP. In-situ контроль.

04

Очистка

Автоматическая очистка RCA-1/2. Сушка Марангони.

05

Финальный контроль

TTV, шероховатость, частицы, микроскопия.

06

Упаковка и сертификация

Упаковка, сертификат, SPC данные.

Спецификации качества

ПараметрЦелевое значениеМетод измерения
Шероховатость поверхности (Ra)< 0,5 нмАСМ (скан 10×10 мкм)
TTV (после регенерации)< 2,0 мкмЁмкостной датчик
Прогиб / коробление< 30μm (200mm), < 50μm (300mm)Ёмкостной датчик / интерферометрия
Металлическое загрязнение поверхности< 5×10¹⁰ атомов/см²TXRF-анализ
Прирост частиц (> 0,2 мкм)< 10 приростов частиц на пластинуSurfscan (лазерное светорассеяние)
Остатки плёнкиНе обнаруженоЭллипсометрия / XRF
Зона исключения края< 3 мм от края пластиныАвтоматический контроль края
Циклы регенерации (до утоньшения)обычно 3–5 цикловОтслеживание толщины по циклам

Приведённые характеристики являются типовыми значениями для стандартного процесса восстановления. Индивидуальные программы восстановления предоставляются по запросу.

Экологические преимущества

Анализ затрат

Регенерация пластин обеспечивает значительную экономию по сравнению с новыми prime-пластинами, как правило, на 60–80% дешевле. Для крупных фабрик, обрабатывающих тысячи мониторных и тестовых пластин в месяц, программы регенерации могут снизить годовые расходы на подложки на миллионы долларов.

Экологичность

Регенерация пластин снижает экологический след производства полупроводников за счёт продления срока службы пластины. Каждая регенерированная пластина экономит около 2,5 кВт·ч энергии и 5 литров воды по сравнению с производством новой пластины, отводя высокочистый кремний от потоков отходов.

Управление жизненным циклом

Каждая регенерированная пластина отслеживается на протяжении всего жизненного цикла, включая количество циклов регенерации, оставшуюся толщину и историю проверок. Наша система управления циклами помогает оптимизировать частоту регенерации и прогнозировать конец срока службы каждой пластины.

Совместимость подложек

Наши процессы регенерации поддерживают кремниевые пластины всех распространённых типов легирования, ориентаций и диаметров. Мы также предлагаем регенерацию для подложек SOI, стекла и составных полупроводников с использованием специализированной химии процесса для каждой материальной системы.

Обеспечение качества

Наша метрологическая лаборатория аккредитована по ISO 17025 с эталонами, прослеживаемыми к NIST. Всё измерительное оборудование ежедневно проходит поверку с использованием сертифицированных эталонных пластин, а неопределённость измерений документируется для каждого типа параметра.

Начните программу восстановления

Укажите тип пластин, стек плёнок, объём. Ответ в течение 24 ч.

ISO 9001 SEMI стандарты Лазерная прослеживаемость Экологичный процесс