Подложки
MEMS процессы
Переработка
Аксессуары
Ресурсы
Компания
Магазин
Диаметр 2″ – 6″ Диапазон диаметров
Эпи-готово < 3Å RMS Чистота поверхности
SI > 10⁷ Ω·cm Полуизолирующий
Рост VGF / LEC Методы роста
Пластины GaAs в наличии — выберите диаметры 2″–6″ и варианты легирования.
Купить пластины GaAs

Обзор

Арсенид галлия (GaAs) — компаундный полупроводник с прямой запрещенной зоной 1.424 eV и высокой подвижностью электронов 8,500 cm²/V·s.

Доступны варианты подложек: SI без легирования, N-типа Si (10⁻³–10⁻¹ Ω·cm) и P-типа Zn; ориентации — (100), (111)A и (111)B при off-cut 2°–15°, диаметры 2″–6″.

Для подготовки к эпитаксии поверхности Epi-Ready имеют целевое значение RMS <3Å; также обеспечивается соответствие SEMI M1–M13, RoHS, REACH и JEDEC.

Epi-Ready подложки GaAs с EPD вплоть до <5×10²/см² (UHP).

Методы выращивания кристаллов

Мы выращиваем GaAs с использованием технологий VGF, LEC и HB, чтобы поддерживать различные требования к качеству и готовности к эпитаксии.

Prime

VGF Prime

Лучшая выход и качество

Диаметр 2″ – 6″
EPD < 5×10² – 5×10³/cm²
Удельное сопротивление SI & doped
Выход / качество Highest

GaAs, выращиваемый по VGF (Vertical Gradient Freeze), рассчитан на низкую плотность дислокаций и высокое удельное сопротивление. Он обеспечивает наилучшие выход и качество для фотонных и RF-подложек при контроле EPD в диапазоне <5×10²–5×10³/cm².

Volume

LEC Volume

Зрелое серийное производство

Диаметр 3″ – 6″+
EPD 1–5×10⁴/cm²
Удельное сопротивление SI & doped
Выход / качество Good (volume)

GaAs, выращиваемый по LEC (Liquid-Encapsulated Czochralski), оптимизирован для зрелого серийного производства и стабильного контроля процесса. Он хорошо подходит для крупнопрофильных (больших) диаметров пластин: EPD обычно находится в диапазоне 1–5×10⁴/cm², обеспечивая хорошую производительность в объёме.

Specialty

HB Specialty

Специализированные геометрии

Диаметр D-shape (non-circular)
EPD < 5×10³/cm²
Удельное сопротивление SI & doped
Выход / качество Specialty

GaAs, выращиваемый по HB (Horizontal Bridgman), может поставляться в виде пластин D-образной не круглой формы для специальных форм-факторов. Этот сорт ориентирован на специализированные геометрии и подходит для применений, где контур пластины является ключевым требованием; EPD контролируется на уровне <5×10³/cm².

Сравнение методов роста

Сравните VGF, LEC и HB, чтобы выбрать оптимальный вариант под вашу приоритетную задачу: производительность по EPD, целевую резистивность или общую урожайность для эпитаксиальных применений.

Серийное производство LEC

LEC обеспечивает отлаженное серийное производство для более крупных диаметров пластин GaAs, поддерживая масштабируемое изготовление.

EPD для LEC в диапазоне 1×10⁴/см² Объёмные размеры: 3″ – 6″+

Спецпродукция HB (D-форма)

Пластины HB используют специальные геометрии D-образной формы, предлагая некруглые форматы для целевых применений и кастомной компоновки.

EPD для HB < 5×10³/см² Спецформат не круглый

Применения RF и микроволновых устройств

Полуизолирующий GaAs обеспечивает низкопотерные высокочастотные устройства для 5G, радиолокации и спутниковых систем, включая силовые усилители и малошумящие усилители.

RF-устройства на GaAs позволяют создавать высокопроизводительные усилители мощности, малошумящие усилители и RF-ключи для требовательных систем.

Благодаря подвижности электронов 8,500 cm²/V·s GaAs обеспечивает уверенную высокочастотную работу для применений 5G, радиолокации и спутниковой связи.

Полуизолирующий GaAs для малопотерьных RF-фронтендов

Применения в оптоэлектронике

У GaAs прямозонный запрещённый зазор 1.424 eV, что поддерживает эффективное излучение и поглощение света для LED и лазерных диодов.

Пластины GaAs хорошо подходят для фотодетекторов и задач визуализации, обеспечивая надежную работу в требовательных оптических системах.

Пластины GaAs поддерживают фотовольтаику и солнечные элементы, а также используются в системах оптической связи.

Технические характеристики

ПараметрДоступный диапазон
Диаметр 2″ (50.8mm), 3″ (76.2mm), 4″ (100mm), 6″ (150mm)
Тип легирования SI-Undoped, N-type Si-doped, P-type Zn-doped
Удельное сопротивление SI: >10⁷ Ω·cm; N-type: 10⁻³–10⁻¹ Ω·cm
Кристаллографическая ориентация (100), (111)A, (111)B, off-cut 2°–15° toward (110)
Толщина 350μm, 500μm, 625μm standard (custom on request)
Полировка поверхности SSP, DSP, Epi-Ready — RMS < 3Å (AFM 5×5μm)
EPD (плотность ямок травления) < 5×10³/cm² (prime); < 5×10²/cm² (UHP grade)
TTV / Bow / Warp TTV < 5μm, Bow < 10μm, Warp < 15μm
Подвижность электронов (μₑ) 8,500 cm²/V·s (undoped GaAs at 300K)
Ширина запрещённой зоны 1.424 eV (direct, Γ-valley)
Плотность дислокаций Grade-dependent: prime < 5×10³/cm²; UHP < 5×10²/cm²
Методы роста VGF (Vertical Gradient Freeze), LEC (Liquid-Encapsulated Czochralski), HB (Horizontal Bridgman)
Обработка обратной стороны Etched, polished, or laser-marked per customer specification
Лазерная маркировка SEMI M12/M13 compliant: soft-mark on front or back side
Срез / нотч Per SEMI M1: EJ (EJ-standard) or US flat configuration
Количество частиц @ 0.3μm ≤ 10 particles (laser surface scan, SEMI M53 equivalent)
Корпусировка Vacuum-sealed single-wafer cassettes, Class 100 cleanroom
Соответствие стандартам SEMI M1–M13, RoHS, REACH, JEDEC

Применения

📡

СВЧ и радиочастотные устройства

Полуизолирующий GaAs обеспечивает высокочастотные малопотерьные устройства для 5G, радара и силовых усилителей.

💡

СИДы и оптоэлектроника

Прямозонная структура обеспечивает эффективное излучение света и поддерживает применение в светодиодах и оптоэлектронных компонентах.

📷

Системы визуализации и ИК-датчики

Фотодетекторы на GaAs и инфракрасная визуализация используют преимущества прямозонных характеристик.

🔬

Подложки для НИОКР

Под заказ доступна нужная ориентация: варианты включают (100) и (111) и их модификации.

〰️

Высокоскоростные связи

Широкополосные и высокоскоростные цифровые приложения могут использовать свойства GaAs для быстродействия.

🛰️

Спутниковая и авиационно-космическая электроника

GaAs-пластины поддерживают радиационно-стойкую электронику для спутниковых и аэрокосмических систем.

Качество и сертификация

Пластины GaAs от GINECHIP изготавливаются по ISO 9001:2015 и проходят 100% инспекцию, а также поставляются в соответствии со стандартами SEMI M1–M13 и требованиями RoHS/REACH.

Проверка кристаллографической ориентации Проверка рентгеновской дифракцией для (100)/(111)A/(111)B при off-cut 2°–15°.
Измерение плотности травильных ямок (EPD) Ограничения плотности травильных ямок: prime <5×10³/cm², UHP <5×10²/cm².
Контроль геометрии пластины Геометрические требования: TTV<5μm, Bow<10μm, Warp<15μm.
Шероховатость поверхности по AFM Предел шероховатости по AFM: RMS <3Å при сканировании 5×5μm.
Картирование удельного сопротивления и Холла Целевое значение SI: >10⁷ Ω·cm.
Подсчет частиц (лазерный скан) Лимит по числу частиц по лазерному сканированию поверхности: ≤10 частиц @ 0.3μm.
Проверка лазерной маркировки Маркировка soft-mark, соответствующая SEMI M12/M13, наносится на лицевую или обратную сторону для проверки лазерной маркировки.
Визуальный и упаковочный контроль Финальный визуальный и упаковочный контроль выполняется в чистой зоне Class 100 с вакуумно запаянными кассетами для отдельных пластин.

Запросить коммерческое предложение на GaAs

Сообщите ваши индивидуальные спецификации, и мы подготовим предложение. Передайте требования нашей команде для быстрого ответа.

ISO 9001:2015 SEMI M1–M13 Соответствует SEMI M36 RoHS / REACH