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概要

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H 2Main Standards

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直徑:50.8mm–450mm(2吋–18吋)晶向:〈100〉, 〈110〉, 〈111〉替代摻雜:p-type (Boron)、n-type (Phos, As, Sb)Notch:SEMI M1 附錄對 notch 尺寸規範標記:SEMI 字母數字與條碼規範修訂:持續更新,最新版 2023 年 4 月

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外延厚度:0.5μm–150μm厚度均勻性:±2%–±5%電阻率:0.001–1000 Ω·cm缺陷:滑移線、堆垛層錯、Haze襯底:As-doped, Sb-doped, 或 intrinsic應用:CMOS, BiCMOS, 功率元件

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GaAs:2吋–6吋(50.8mm–150mm)InP:2吋–4吋(50.8mm–100mm)EPD:< 5×10³ cm⁻² (LED) 至 < 5×10⁴ cm⁻² (IC)晶向:(100), (111)A, (111)B摻雜:Si-doped n-type, Zn-doped p-type應用:RF, 光電, LED, 太陽能電池

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測量:激光表面掃描(SP1, SP2, SP3)粒徑級別:≥0.09μm, 0.12μm, 0.16μm...邊緣排除:3mm (150mm), 5mm (200mm)COPs:晶體原生顆粒處理先進節點:≥19nm 顆粒 < 10/晶圓報告:每片晶圓顆粒數 + 累積分佈

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方法:VPD-ICP-MS, TXRF, SIMS元素:Fe, Cu, Ni, Cr, Na, Al, Zn, Ca...先進節點:< 1×10¹⁰ atoms/cm² 總金屬關鍵元素:Cu < 5×10⁹, Fe < 1×10¹⁰表面製備:SC1/SC2 清洗後測量分級:Grade 1 (最嚴格) 至 Grade 4

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頂層 Si:5nm (FD-SOI) 至 100μm (電源)BOX:10nm–2μm SiO₂均勻性:±5Å (FD-SOI), ±0.5μm (厚膜)製備:Smart Cut™, BESOI, SIMOX缺陷:HF 缺陷, 空洞 (voids)應用:FD-SOI, RF-SOI, 光子 SOI, 功率 SOI

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多型:4H-SiC, 6H-SiC直徑:100mm, 150mm, 200mm (新興)MPD:< 0.1 cm⁻² (Prime), < 0.5 cm⁻² (標準)BPD:< 500 cm⁻² 磊晶後表面:CMP Ra < 0.2nm, epi-ready應用:電動車逆變器、5G GaN RF、電網

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基板:GaN-on-Si, GaN-on-SiC, GaN-on-藍寶石直徑:100mm, 150mm, 200mmXRD FWHM:(002) < 300 arcsec, (102) < 400翹曲:bow < 30μm (150mm)GaN 厚度:1μm–6μm應用:功率 HEMT, RF, microLED

H 2Test Methods

Test Methods Intro

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H 2How To Use

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H 2Param Ref

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