מצעים
תהליכי MEMS
עיבוד מחדש
אביזרים
משאבים
חברה
חנות
6+ תעשיותתחומי יישום
50+ מדינותאספקה גלובלית
ISO 9001איכות מוסמכת
מענה תוך 24 שעותתמיכה טכנית

סקירה כללית

בחירת מצע מוליך למחצה היא הבסיס לביצועי ההתקן. בין אם אתה מתכנן חיישן אינרציאלי MEMS, מגבר הספק GaN, מקלט-משדר פוטוני סיליקוני או אריזה 2.5D מתקדמת, הבחירה של חומר המצע, גודל הפרוסה, אוריינטציית הגביש, ההתנגדות ואיכות פני השטח קובעת ישירות תפוקה, אמינות וביצועים חשמליים.

Ginechip מספקת מגוון מקיף של מצעים מהונדסים על פני כל ספקטרום היישומים של מוליכים למחצה — מפרוסות סיליקון סטנדרטיות ל-CMOS בנפח גבוה ועד למוליכים למחצה מורכבים III-V אקזוטיים ליישומי פוטוניקה ו-RF נישתיים. כל מצע נרכש מיצרנים מוסמכים, נבדק לפי המפרט שלך ומסופק עם עקיבות חומר מלאה. צוות הנדסת היישומים שלנו מסייע לך לנווט בבחירת חומרים, בתאימות תהליכים ובאסטרטגיית שרשרת אספקה, כך שתוכל להתמקד בחדשנות ההתקן.

תעשיות

MEMS וחיישנים

Si, SOI, זכוכית, פיאזו. DRIE, bonding. אריזה הרמטית. 100-200 מ"מ.

Si, SOI, Glass, Piezo100mm–200mmDRIE & Bonding-readyHermetic packaging

רכיבי RF והספק

HR-Si, GaAs, GaN-on-Si/SiC. אובדן נמוך. mmWave. 50-200 מ"מ.

HR-Si, GaAs, GaN-on-Si/SiC50mm–200mmLow loss tangentmmWave compatible

פוטוניקה ו-LiDAR

SOI, InP, LiNbO₃, SiO₂. BOX 0.5-3μm. ליטוש אופטי. 100-300 מ"מ.

SOI, InP, LiNbO₃, SiO₂100mm–300mmBOX: 0.5μm–3μmOptical-grade polish

אלקטרוניקת הספק (SiC/GaN)

SiC (4H, 6H), GaN-on-Si. מיקרופייפים < 1/ס"מ². יציב בטמפ' גבוהה. 100-200 מ"מ.

SiC (4H, 6H), GaN-on-Si100mm–200mmMicropipe density < 1/cm²High-temp stable

אריזה מתקדמת

אינטרפוזרים Si וזכוכית. TSV 5-100μm. 300 מ"מ. FOWLP. RDL, מיקרובאמפים.

Si & Glass interposersTSV: 5μm–100μm300mm compatibleFOWLP carriers

מו"פ ואבטיפוס

שברים עד פרוסות מלאות. ללא כמות מינימלית. מחירים אקדמיים. ייעוץ.

Fragment to full waferNo minimum quantityCustom stacks availableAcademic pricing

פתרונות

אספקה בין מפעלים

רב-מקורות, קונסיגנציה, JIT, אנליטיקה. הפחתת סיכונים.

Multi-source qualificationConsignment inventoryJIT deliverySupply chain analytics

תמיכה במוסדות מחקר

מחירים אקדמיים, ייעוץ, חומרים לא סטנדרטיים, תמיכה במענקים.

Academic pricing tiersTechnical consultationNon-standard materialsGrant support

ערכות סטארטאפ ואבטיפוס

ערכות פרוסות מוכנות. דגימות מהירות, האצת NPI, תנאי סטארטאפ.

Pre-curated wafer setsRapid samplingNPI accelerationStartup-friendly terms

מדריך לבחירת יישום

בחירת מצע: איזון תכונות, תאימות, נפח, תקציב. שאלות נפוצות:

Q1איזה חומר מצע הכי טוב ל-MEMS שלי?
תלוי במנגנון ההמרה. Si (CZ) — ברירת מחדל. SOI ל-DRIE עם בידוד. זכוכית לחיבור אנודי. פיאזו (AlN, PZT) ל-BAW/SAW.
Q2GaN-on-Si או GaN-on-SiC?
GaN-on-SiC עבור > 3 GHz, הספק גבוה (מוליכות תרמית ×3). GaN-on-Si זול יותר עבור < 1 MHz (מטענים, ספקי כוח).
Q3איזה קוטר פרוסה עליי להשתמש?
100/150 מ"מ — MEMS, תרכובות, מו"פ. 200 מ"מ — CMOS, הספק. 300 מ"מ — לוגיקה מתקדמת, זיכרון.
Q4איזה גימור פני שטח דרוש לאפיטקסיה?
Epi-ready: Ra < 0.5nm, ללא haze. ליטוש CMP. אפיית H₂ > 1100°C ל-Si. תחמוצת מבוקרת ל-III-V.
Q5האם אוכל לקבל מצעים עם מפרטי התנגדות מותאמים?
כן. התנגדות מ-< 0.001 ועד > 10,000 Ω·ס"מ. אחידות < ±3% סטנדרטי, < ±1% מותאם. מפות 4-מחטים.
Q6אילו מסמכים והסמכות אתם מספקים?
ISO 9001, דוח מעקב, נתוני מטרולוגיה, רשימת אריזה. SEMI, RoHS, CMRT, REACH, ITAR — לפי בקשה.

צריך עזרה בבחירת מצע?

המהנדסים שלנו יבחנו את הדרישות שלך וימליצו על המצע האופטימלי — ללא עלות.

ISO 9001:2015 מעקב מלא אחר מנות תקני SEMI לוגיסטיקה גלובלית